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真空炉热处理炉

一、真空炉热处理炉用途
       真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等。

二、真空炉热处理炉特点
       1、加热元件360度均布,炉温均匀性高,冷室监控标配。
       2、该设备分热室和冷室,生产效率高,使用成本低。
       3、淬火油槽安装搅拌器(可调速),工件变形小,冷却均匀性高,操作简捷,编程工艺可多步输入,机械动作稳定,手动/自动控制,故障自动报警/显示。

三、真空炉热处理炉参数
型号  加热有效区
(mm)
装炉量
(Kg)
加热元件
(Ω)
加热功率
(Kw)
高温度
(℃)
均温性
(±℃)
限真空度(Pa) 压升率
(Pa/h)
气冷压强
(bar)
TDRG2-644 600×400×400 200 石墨/钼 70 1320 5 4.0E-1/6.7E-3 ≤0.60 ≤2
TDRG2-755 750×500×500 300 石墨/钼 80
TDRG2-966 900×600×600 500 石墨/钼 120
TDRG2-1288 1200×800×800 800 石墨/钼 240
注:可根据用户要求另行设计制造,不同规格及参数和详细技术方案请来电咨询!

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